二、鎂合金微弧氧化工藝概述
鎂合金微弧氧化技術是一種在電解質溶液中,通過施加高電壓在鎂合金表面引發微弧放電,使表面局部高溫高壓,進而實現氧化膜生長的過程。這種工藝結合了電化學、等離子體化學和高溫化學反應,是一種復雜的表面處理技術。三、工藝原理分析
鎂合金微弧氧化工藝原理主要包括以下幾個關鍵步驟: 1. 電解液選擇:選擇合適的電解液是微弧氧化工藝的關鍵。通常使用的電解液包含一些氧化物和無機鹽,這些物質在微弧的高溫環境下能夠迅速反應,形成所需的氧化膜。 2. 高壓電場建立:在電解液中施加高電壓,形成高壓電場。這個電場會導致鎂合金表面產生微小的電擊穿,形成微弧。 3. 微弧放電:微弧放電是工藝中的核心反應之一。微弧的高溫(可達數千度)使鎂合金表面迅速熔化并發生化學反應,形成氧化物。 4. 氧化膜生長:隨著微弧的持續作用,氧化物逐漸堆積在鎂合金表面,形成一層致密的氧化膜。這個氧化膜具有良好的耐腐蝕性和耐磨性。 5. 后期處理:形成氧化膜后,還需進行必要的后期處理,如清洗、干燥和封孔等,以提高氧化膜的性能和穩定性。四、工藝優勢
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