首先是電源系統。微弧氧化過程中，電源系統提供所需的電流和電壓。一般采用脈沖電源，能夠控制電流的大小和頻率，以適應不同材料的處理需求。
其次是電解槽。電解槽是微弧氧化過程中的重要工作區域，其中含有電解質溶液。在電流的作用下，電解質溶液中的離子會遷移到處理樣品表面，形成氧化反應。
處理樣品是微弧氧化過程中的核心對象，一般是金屬或合金材料。在電解槽中，樣品表面受到電流和電解質溶液的共同作用，發生微弧氧化反應。
最后是氧化膜的形成過程。在微弧氧化過程中，處理樣品表面的金屬原子與電解質溶液中的氧離子結合，形成一層致密的氧化膜。這層氧化膜具有優異的物理和化學性能，能夠顯著提高材料的耐磨性、耐腐蝕性和絕緣性能。
在原理圖中，還會詳細描繪出微弧的形態、分布以及電流密度等參數的變化情況。這些參數對于優化微弧氧化過程、提高材料性能具有關鍵作用。
此外，原理圖還可能包含溫度控制系統、氣氛控制系統等輔助部分。溫度控制對于保證氧化過程的穩定性至關重要，而氣氛控制則可以調節氧化過程中的氣氛環境，以滿足不同材料的處理需求。
掃碼添加客服微信
手機微信:18766446695